8 января, 2016 
adminGWP Вакуумной установкой принято считать устройство, использующееся для плазменной обработки материала, подготовки конструкций и изделий к последующему покрытию их ультратонким слоем (имеет различные характеристики и качества), широко применяемых (конструкции и изделия) в различных отраслях промышленности. Зачастую процессу напыления предшествует процесс нагревания и/или травления. Эти действия выполняются для получения определенных результатов, например, предварительной очистки поверхности, ее активирования или удаления ранее нанесенного напыления.
Несмотря на достаточно широкое применение вакуумных установок, сам технический процесс все еще остается достаточно сложным и трудноосуществимым. Его реализация также весьма дорогостояща. В зависимости от способа осаждения напыления подразумевают несколько видов покрытий, среди которых аморфные углеродные, электродные, алмазоподобные и другие.
Состав покрываемого слоя также влияет на характеристики изготавливаемого изделия. Так, например, можно управлять его (изделие) электропроводными и изолирующими свойствами, повысить его прочность и увеличить эксплуатационный срок.
В большинстве случаев способы получения покрытий в вакууме зависят от введения слоеобразующего компонента в систему вакуумного осаждения. Он (компонент) может иметь газообразное или твердое состояние и разлагаться на плазму (CDV) или же преобразовываться в пар (PDV). Практически всегда непосредственному применению любого из вышеперечисленных способов предшествует процесс нагревания и/или травления.
Установка вакуумной обработки подразумевает использование как минимум одной вакуумной камеры, в которой располагается устройство генерации электрического низковольтного дугового разряда, причем его (устройство) значимая часть изготовлена из графита для создания высокой рабочей температуры. От типа покрытия также зависит поддержание электропроводности материала.
Для слоев, максимально чувствительных к высоким температурам, отсутствует необходимость использования горячего анода. Также в камере находится носитель изделия, осуществляющий его перемещение по внутреннему пространству установки и, по меньшей мере, один источник ввода инертного газа (азот, силаны, бораны, германы ит.д.). Если условия проведения процесса вакуумного напыления подводятся индивидуально к изделию, то возможно использование также как минимум одного источника-испарителя.
Похожие материалы:
Опубликовано в рубрике